空氣中粉塵濃度行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)

范圍 

　　本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了用光散射式粉塵儀測定空氣中粉塵相對質(zhì)量濃度，并轉(zhuǎn)換為質(zhì)量濃度的方法、步驟和質(zhì)量控制要求。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于空氣中含有非纖維性粉塵的粉塵濃度的快速測定。 

　　引用標(biāo)準(zhǔn) 

　　下列標(biāo)準(zhǔn)包含的條文，通過在本標(biāo)準(zhǔn)中引用而構(gòu)成為本標(biāo)準(zhǔn)的條文。在標(biāo)準(zhǔn)出版時，所示版本均為有效。所有標(biāo)準(zhǔn)都會被修訂，使用本標(biāo)準(zhǔn)的各方應(yīng)探討、使用下列標(biāo)準(zhǔn)版本的可能性。 gb5748 作業(yè)場所空氣中粉塵測定方法 jjg846 光散射式數(shù)字粉塵儀測定儀檢定規(guī)程 

　　定義 本標(biāo)準(zhǔn)采用下列定義。 

　　1 粉塵 懸浮于空氣中的固體微粒。 

　　2 質(zhì)量濃度 單位體積空氣中所含粉塵的質(zhì)量（mg/m3）。 

　　3 相對質(zhì)量濃度 與質(zhì)量濃度線性相關(guān)的某物理量值。對光散射式粉塵儀為每分鐘計數(shù)值（計數(shù)/分鐘，cpm）。 

　　4 質(zhì)量濃度轉(zhuǎn)換系數(shù)k 空氣中粉塵質(zhì)量濃度與光散射式粉塵儀測定的相對質(zhì)量濃度的比值。 

　　光散射法測定原理 

當(dāng)光照射在空氣中懸浮的粒子上時，產(chǎn)生光散射。在光學(xué)系統(tǒng)和粉塵性質(zhì)一 定的條件下，散射光強度與粉塵濃度成比例。光散射法測定空氣中的粉塵濃度是通過測量散射光強度，經(jīng)過轉(zhuǎn)換求得粉塵質(zhì)量濃度的方法。 

　　測定方法 

　　1 測定點的選擇 對作業(yè)場所的測塵點選擇應(yīng)符合gb5748的規(guī)定，對其他環(huán)境空氣中粉塵濃度的測定可根據(jù)測定需要而定。 

　　2 濾膜測塵 

　　2．1 粉塵濃度的濾膜測定方法應(yīng)按gb5748規(guī)定執(zhí)行。 

　　2．2 濾膜測塵的吸氣口處可以采用粉塵粒子切割器進行粒子分級。測定結(jié)果應(yīng)注明切割器的型式和切割特性。 

　　3 測定質(zhì)量濃度轉(zhuǎn)換系數(shù)k 

　　3．1 測定用光散射粉塵儀應(yīng)經(jīng)法定質(zhì)量檢驗部門按jjg846檢定規(guī)程進行檢定合格后方能使用。 

　　3．2 將光散射式粉塵儀和濾膜測定儀的吸氣口置于同一測點，在同一高度，同一方向，同時采樣。兩儀器的吸氣口中心距不宜大于10cm。 

　　3．3 按下式計算空氣中質(zhì)量濃度轉(zhuǎn)換系數(shù)k值： k=c/（r-b） 式中：k--質(zhì)量濃度轉(zhuǎn)換系數(shù)； c--由濾膜測塵測得的空氣中粉塵質(zhì)量濃度。 mg/m3； r--光散射式粉塵儀單位時間計數(shù)值，計數(shù)/分鐘（cpm）； b--光散射式粉塵儀本底值，計數(shù)/分鐘（cpm）。5．3．4 k值的確定 在同一條件下，對空氣中的粉塵采集12個以上的有效樣品，進行質(zhì)量濃度和相對質(zhì)量濃度的相關(guān)分析，確認(rèn)線性關(guān)系具有顯著性（p<0.01）時，可將其轉(zhuǎn)換系數(shù)k的幾何平均值作為該種粉塵的轉(zhuǎn)換系數(shù)。 

　　4． 已知轉(zhuǎn)換系數(shù)的質(zhì)量濃度測定

　已知空氣中粉塵濃度的轉(zhuǎn)換系數(shù)k值時，其質(zhì)量濃度可按下式計算： c=（r-b）k 式中：c--粉塵質(zhì)量濃度，mg/m3； r--光散射式粉塵儀單位時間計數(shù)值，計數(shù)/分鐘（cpm）； b--光散射式粉塵儀本底值，計數(shù)/分鐘（cpm）； k--已知空氣中粉塵質(zhì)量濃度轉(zhuǎn)換系數(shù)。 

　　質(zhì)量控制 

　　1 光散射式粉塵儀應(yīng)經(jīng)法定質(zhì)量檢驗部門按jjg846檢定規(guī)程進行檢定。 

　　2 濾膜測塵使用粒子切割器時，應(yīng)注明所用切割器型式及切割特性，并注明與此對應(yīng)的k值。 

　　3 確定k值應(yīng)在相對濕度<80%，平均風(fēng)速<1m/s的環(huán)境中進行，并要防止燃油廢氣、煙及水霧的干擾。 

　　4 當(dāng)空氣中粉塵種類、性質(zhì)、工藝流程等條件有變化時，需重新測定k值。